近日，武汉易达新材料有限公司自主研发生产的卡盘清洁晶圆（CCW, Chuck Clean Wafer）顺利通过多轮严苛产线验证，成功累计拿下国内外10家半导体晶圆制造客户订单，标志着又一项长期被海外垄断的半导体关键耗材，正式迈入规模化国产批量供货阶段。
半导体刻蚀、薄膜沉积工艺中，静电卡盘（ESC）长期运行会积累微颗粒、金属离子污染物。如果清洁不到位，将直接造成晶圆良率损失。CCW卡盘清洁晶圆就是专门用来定期维护静电卡盘和手臂的专用耗材：依靠陶瓷复合材料体系，可以通过吸附微小颗粒，解决半导体设备B/H，金属离子污染等问题，同时严格管控金属离子析出（MCL）、掉屑、表面均匀性等关键指标，保障高端制程稳定运行。过去很长一段时间里，这类高端清洁材料市场高度集中于日本日东、美国Entegris等海外厂商。产品验证周期长、配方壁垒高、批次一致性要求严苛，是国产耗材突围路上最大的几座大山。很多国内团队卡在配方调试、中试放大、客户可靠性测试阶段，迟迟难以拿到量产订单。成立于2023年的武汉易达新材料，扎根光谷这片科创沃土，走出了一条“产学研协同、小试迭代、中试攻坚、产线验证”的国产化之路。
当前武汉易达新材料公司获得光谷天使基金与深圳天使基金首期数百万天使投资，武汉拥有中试生产车间基础上新增量产线。
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