前言:在微电子技术向三维异构集成演进的关键阶段,低温共烧陶瓷(LTCC)和高温共烧陶瓷(HTCC)技术在规模化生产中占主导但其二维层压-烧结工艺存在局限性,导致电气布线受限,面临几何自由度不足、集成密度瓶颈和异质集成障碍等挑战特别是在红外焦平面阵列(FPA)的异质集成中,传统平面中介层难以满足曲面探测器的精准对接需求,导致信号路径和阻抗匹配问题。

3D打印优势成本研发周期

传统工艺(干压成型、流延层压)面临两大瓶颈:一是复杂结构难实现(内部微通道直径 <0.5mm 时成型率 < 50%);二是小批量成本高(模具费 5-10 万元,研发周期 3-6 个月)。而陶瓷增材制造技术(尤其是光固化陶瓷 3D 打印、SLA 陶瓷技术)凭借 “无模成型 + 微米级精度”,将封装壳研发周期缩短至 1-2 周,小批量成本降低 60%。

LTCC 3D 打印的技术原理与核心步骤

LTCC 3D 打印的核心是 “光敏 LTCC 浆料的逐层固化 + 低温共烧”,需精准控制材料、成型、后处理三大环节

图源奇迹三维

(1) 光敏 LTCC 浆料制备

LTCC 浆料由陶瓷粉体(如 Al₂O₃、堇青石)、玻璃相(如硼硅酸盐玻璃)、光敏树脂及分散剂组成。

•玻璃相占比 20-40%(决定共烧温度,占比越高烧温越低),陶瓷粉体粒径控制在 1-5μm(保证浆料流动性与烧结致密性)

•光敏树脂需匹配陶瓷粉体折射率,避免固化时出现 “光散射”,调整环氧丙烯酸酯树脂配比,使浆料固化深度偏差≤3μm;

•浆料黏度需稳定在 3000-6000cP(适配光固化打印喷头),在实践中,针对浆料沉降问题,通过添加改性磷酸酯类分散剂,可将粉体沉降速率降低 80% 以上。

(2) 光固化成型

采用 SLA 陶瓷技术或 DLP(数字光处理)技术

•层厚设置为 20-50μm(兼顾打印效率与结构精度),成型精度可达 ±5μm,能实现直径≥100μm 的内部微通道;

•曝光能量需根据浆料陶瓷含量调整(如陶瓷含量 60% 时,曝光能量控制在 15-20mJ/cm²),避免因能量不足导致层间结合差;

•针对复杂构件(如多层 LTCC 基板),采用 “支撑结构优化设计”,减少打印后支撑去除对构件的损伤

(3) 脱脂与共烧

•脱脂阶段:采用 “分段升温” 策略,从室温升至 450℃,升温速率 0.3-0.8℃/min,避免树脂快速分解产生开裂,脱脂率可达 95% 以上;

•共烧阶段:峰值温度 800-880℃,保温 2-4h,升温速率 1-2℃/min,通过预烧陶瓷粉体(预烧温度 600-700℃),可将总收缩率控制在 8-12%,远低于传统工艺的 15-20%。

未来发展

LTCC 3D 打印技术正朝着 “多层集成化”(如集成传感器、天线的一体化 LTCC 构件)、“大尺寸制备”(如尺寸≥300mm 的基板)、“多功能化”(如兼具介电与导热功能)方向发展,未来将在 6G 通信、新能源汽车电子等领域释放更大价值但行业仍面临挑战:一是高频率(≥10GHz)下 3D 打印 LTCC 的介电损耗控制难度大;二是大尺寸构件共烧时的温度场均匀性难以保障;三是光敏 LTCC 浆料的成本高于传统浆料(约 1.5-2 倍)。

来源奇迹三维

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序号
拟定议题
拟邀嘉宾
1
高导热陶瓷材料HTCC制备关键技术
拟邀请陶瓷材料、HTCC企业/高校研究所
2
LTCC低成本生瓷带研发与应用研究
拟邀请LTCC、陶瓷粉体企业/高校研究所
3
烧结工艺对LTCC/HTCC性能影响及优化
拟邀请烧结炉设备企业/高校研究所
4
HTCC氮化铝基板产业化应用瓶颈
拟邀请氮化铝基板企业/高校研究所
5
陶瓷管壳生产用LTCC成型设备适配创新
拟邀请设备企业/高校研究所
6
LTCC技术的最新突破与发展趋势
拟邀请LTCC生产企业/高校研究所
7
低成本铜基LTCC体系研发与量产前景
拟邀请电子浆料企业/高校研究所
8
LTCC技术在5G/6G通信领域的应用前景
拟邀请LTCC生产企业/高校研究所
9
HTCC在半导体封装中的应用
拟邀请陶瓷封装企业/高校研究所
10
超细银粉LTCC电子浆料印刷性能优化
拟邀请电子浆料企业/高校研究所
11
LTCC射频器件的研发进展与前沿趋势
拟邀请LTCC生产企业/高校研究所
12
LTCC/HTCC产品的检测及其可靠性分析
拟邀请检测企业/高校研究所
13
低温共烧陶瓷(LTCC)的3D打印技术研究进展
拟邀请LTCC、3D打印企业/高校研究所

 

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作者 ab, 808