近日,云南临沧鑫圆锗业股份有限公司发布公告称,其控股子公司云南鑫耀半导体材料有限公司实施的”磷化铟单晶片建设项目”成功投产。该项目建设一条磷化铟单晶片生产线,生产线建成后将具备年产 15 万片 4 英寸磷化铟单晶片的能力。
云南锗业:磷化铟单晶片建设项目投产

 

磷化铟(InP)单晶是光电子、微电子器件的关键材料,作为一种新型半绝缘晶片,对于改善和提高基微电子器件的性能具有重要的意义,既保持了传统原生掺铁衬底的高阻特性,同时铁浓度大幅降低,电学性质、均匀性和一致性显著提高,主要用于制作半导体材料以及光纤通信技术。
云南锗业:磷化铟单晶片建设项目投产

云南锗业此前已成功投产了具有国际先进水平的2-4英寸磷化铟衬底生产线。产品被广泛应用于微波振荡器与放大器、光纤通讯率放大器等领域。

原文始发于微信公众号(艾邦半导体网):云南锗业:磷化铟单晶片建设项目投产

作者 li, meiyong

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