MLCC行业 超高压纳米分散技术

制造工艺升级  先进浆料分散方案   

    多层陶瓷贴片电容器(MLCC)作为电子产品的“血液”,在现代电子工业中扮演着不可替代的角色。随着AI服务器、新能源汽车等新兴领域的快速发展,MLCC行业对高性能、高可靠性的需求日益提升。通过技术创新有效提升产品性能与一致性,成为MLCC浆料处理的关键突破口。

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MLCC常见浆料类型

类  别

核心材料举例

介质浆料

钛酸钡基陶瓷浆料

内电极浆料

镍浆、银钯浆

端电极浆料

银浆、铜浆

其他浆料/辅助材料

PVB胶黏剂、CMP抛光液、电子封装胶等

    陶瓷介质浆料:如钛酸钡陶瓷浆料,这是形成MLCC介电层的核心材料,其均匀性直接影响电容器的电气性能。

    电极浆料:根据MLCC类型不同,可分为贵金属电极(NME)如银钯浆料,以及贱金属电极(BME)如镍电极浆料等;

   这些浆料的质量决定了MLCC产品的最终性能。高端MLCC要求浆料具有极高的均匀性和细度,以及优异的稳定性,避免在后续工艺中出现问题。

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MLCC浆料常见问题及解决方向

    颗粒团聚问题:浆料中的纳米颗粒容易发生团聚,导致分散不均匀,影响MLCC的电性能和使用寿命。

    粒径分布不均:传统分散方法如砂磨机、球磨机处理的浆料,往往存在粒径分布宽泛的问题,会导致MLCC烧结过程中出现结构缺陷。

    批次稳定性差:对于高端MLCC产品,不同批次间的一致性至关重要,而传统分散工艺难以保证稳定的浆料质量。

    金属粉体难分散:特别是180-200nm导电浆料中,金属粉体分散困难,大颗粒难以去除,影响MLCC的可靠性。

   解决这些问题的关键技术方向在于优化浆料配方和改进分散工艺。

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微射流-超高压纳米分散技术

    微射流超高压纳米分散技术是近年来在MLCC浆料处理中展现出色性能的新型分散方法。

    工作原理:

   浆料以极高压力(如30000psi,约2068bar)通过微米级喷嘴,以亚音速撞击在特制的金刚石乳化腔,瞬间经历极强的剪切力、高速撞击和空穴效应等多重力的作用,从而得到足够小而均一的粒径分布。

    工艺优势:

    与砂磨机、球磨机等传统分散设备相比,微射流超高压均质机具有:

    分散效果卓越:能快速高效实现真正的纳米级分散,颗粒分布均匀,极大提升MLCC产品性能;

    批次一致性好:超压输送系统和固定几何结构的金刚石微通道,确保物料在连续多批次处理中达到高度一致的纳米分散效果,为MLCC大规模高效生产提供产业支撑;

    污染风险低:无研磨介质磨损,少外来污染;

    操作控制精确:智能控制系统,实时监控;

    生产效率高:连续式处理流程,无需频繁停机清洗,大大提高了生产效率;

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国产微射流均质机行业应用

   随着国内科技创新技术发展,国产微射流均质机领域已取得显著进步,以 NOOZLE® 诺泽流体科技为代表的企业,通过十余年的技术积累,已成功填补了国内在超高压纳米均质分散技术领域的部分空白。

   国产微射流均质机不仅在技术指标上与国际先进水平看齐,更在性价比、本地化服务和定制化解决方案方面展现出明显优势,已成为国内MLCC头部企业的首选合作伙伴,优质日韩平替。

   诺泽流体科技(上海)有限公司自2012年成立以来,一直专注于微纳米技术应用领域,在国内微射流均质机市场占据领先地位,系列最小处理量1ml起,生产型可达1000L/H,成功建成多个超大规模微射流均质分散产线。在MLCC行业,诺泽流体已成为诸多行业头部企业的关键工艺合作伙伴。

 实验型  仅需1ml起 

生产型  可达1000L/H

规格型号

处理压力

处理量

实验型 

Nano- Lab

可达 20000psi

25ml/min

最小1ml起

实验型 Nano- LA

可达 45000psi

4L / H

中试型 Mini

可达 30000psi

20L / H

中试型 1000

可达 30000psi

85L / H

生产型 2000

可达 30000psi

200L/H

无菌生产型 2000

可达 30000psi

120L/H

生产型 4000

可达 30000psi

480L/H

生产型 4000T

可达 30000psi

1000L/H

    诺泽流体科技微射流超高压均质机在MLCC浆料处理中的具体应用常见的有:

    钛酸钡陶瓷浆料的分散:

    通过超高压均质处理,使浆料分散性极大改善,颗粒细化至纳米级且分布均匀,显著提升了MLCC产品的电容量。

    贵金属电极浆料的均质化处理:

    有效解决金属粉体难分散、大颗粒难去除的问题,满足高容产品对导电浆料的需求。

    PVB胶黏剂均质分散:

    破坏PVB高分子链的缠结与团块,实现分子级的高效溶解与均质化,确保粘结剂体系具备卓越的成膜一致性与流平性,为MLCC生坯的力学强度与加工性能提供核心保障。

    CMP抛光液分散:

    通过超高压均质处理,将研磨颗粒(如二氧化硅、氧化铈)精准细化至目标粒径并实现单分散分布,获得高稳定性、高平坦化效率与低划伤缺陷率的尖端CMP抛光液。

    实际应用案例表明,使用诺泽微射流均质机处理后,MLCC浆料的粒度显著下降,产品平均电容量明显提高,充分体现了该技术在提升MLCC产品性能方面的价值。

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行业发展与展望

    微射流超高压均质技术已成为推动MLCC产业升级的核心工艺,其通过实现浆料的纳米级精密分散,为产品迈向薄层化、高容化提供了关键支撑。

    国产装备在这一领域的成熟与崛起,不仅突破了技术壁垒,更构筑了本土产业链的核心竞争力,正助力中国高端电子制造在全球舞台上实现新一轮跨越。

    诺泽流体科技诚邀行业同仁共探精密分散技术的发展,为产业创新注入新动能。

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作者 ab, 808