陶瓷真空吸盘是由多孔陶瓷材料制作,孔径分布均匀,内部相互贯通,表面经研磨后,光滑细腻,平整性好,广泛应用于硅、蓝宝石、砷化镓等半导体晶圆的制造环节。

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图 陶瓷吸盘应用示意图,来源:RPS

一、什么是陶瓷真空吸盘

1、陶瓷真空吸盘的工作原理

多孔陶瓷真空吸盘(Porous Ceramic Vacuum Chuck),是利用真空吸附原理固定工件的承载平台,真空吸盘传递真空的部分为多孔陶瓷板,多孔陶瓷板装配在底座的沉孔中,其周边与底座粘结密封,底座为精密陶瓷或金属材料加工而成。藉由金属或陶瓷底座以及特殊多孔质的陶瓷结合,内部精密气道的设计,给予负压时,可以将工件平滑稳固地吸附于真空吸盘上。

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图  陶瓷真空吸盘的工作原理,来源:商德陶瓷
由于多孔质陶瓷的孔洞非常微细,能使工件表面贴合于真空吸盘时,不会因为负压而造成表面的刮伤、凹陷等不良因素。
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图  陶瓷真空吸盘,来源:三磨所

2、陶瓷真空吸盘的特点

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图 陶瓷真空吸盘的优势,来源:商德陶瓷
①结构致密均匀,采用微孔陶瓷材料结构致密均匀,不易吸附硅粉磨屑,吸盘易于清洗;
②强度高,耐磨耗佳,具有陶瓷坚硬特性,耐损耗、不易刮伤损坏,在磨削时无形变,保证硅片在磨削时各点受力均匀,不易产生崩边、碎片等现象;
③寿命长,表面形状保持性好,修整周期长且修整量小,因此有很高的寿命;
④绝缘性高,绝缘性材质,消除静电。
⑤可重复使用,易修整,修整时不会出现破裂、碎块、脱粒等现象,经过修整研磨后,一定程度内可反复使用。
⑥不易分解及发尘,陶瓷属于完全烧结、结构坚固稳定、不发尘。
⑦轻量化,轻质材料且内部结构为均匀气孔,重量极轻;
化学稳定性好, 通过材质的选择和工艺控制, 可制成适用于各种腐蚀环境的多孔陶瓷吸盘。

3、陶瓷真空吸盘VS传统金属吸盘

传统的金属吸盘吸附力不均匀,薄件材料容易变形,不具备防静电功能,材料硬度小,容易发生磨损。而陶瓷真空吸盘适用于薄件吸附,具有防静电功能,耐磨耐腐蚀。
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图  陶瓷真空吸盘VS传统金属吸盘

二、陶瓷真空吸盘在半导体领域的应用

陶瓷真空吸盘是半导体晶圆生产中夹持和承载的工具,具有平面度、平行度高,组织致密均匀,强度高,透气性好,吸附力均匀,易于修整等特点,适用于半导体晶圆制造的减薄、切割、研磨、清洁和处理等工序,有效解决了晶圆印痕、芯片静电击穿、Particle污染等诸多难题,在实际应用中实现了半导体晶圆片极高的加工品质。

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图 陶瓷吸盘在半导体晶圆制造中的应用,来源:RPS
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一、暂定议题

序号

暂定议题

拟邀请企业

1

半导体设备及陶瓷零部件的研究进程

拟邀请陶瓷零部件企业/高校研究所

2

半导体设备专用陶瓷成型工艺的最新进展与应用

拟邀请陶瓷零部件企业/高校研究所

3

氮化铝陶瓷加热器的研发及其在CVD中的应用

拟邀请陶瓷加热盘企业/高校研究所

4

陶瓷静电卡盘在半导体设备中的关键技术与研究进展

拟邀请静电卡盘企业/高校研究所

5

大尺寸半导体设备用陶瓷加热器制备技术

拟邀请陶瓷加热盘企业/高校研究所

6

静电卡盘多层级电极共烧技术研究进展

拟邀请静电卡盘企业/高校研究所

7

陶瓷静电卡盘核心材料技术瓶颈及产业化研究

拟邀请静电卡盘企业/高校研究所

8

LTCC技术在半导体晶圆探针卡中的应用

拟邀请探针卡企业/高校研究所

9

陶瓷劈刀制备技术在引线键合中的应用

拟邀请劈刀企业/高校研究所

10

晶圆制造用陶瓷探针卡关键技术

拟邀请探针卡企业/高校研究所

11

下一代功率半导体封装陶瓷基板的开发与应用

拟邀请陶瓷基板企业/高校研究所

12

陶瓷封装基板在大功率电力电子器件中的应用进展

拟邀请陶瓷基板企业/高校研究所

13

真空钎焊工艺在半导体陶瓷部件产业中的应用优化

拟邀请真空钎焊企业/高校研究所

14

陶瓷基板与金属化的先进制造工艺及其在高频/高功率半导体封装技术

拟邀请陶瓷基板企业/高校研究所

15

耐等离子腐蚀的氧化钇陶瓷的开发与应用

拟邀请氧化钇陶瓷企业/高校研究所

16

氮化硅粉体的高强度制备工艺及其产业化路径

拟邀请陶瓷粉体企业/高校研究所

17

高强度碳化硅材料在半导体设备中的应用

拟邀请半导体设备企业/高校研究所

18

半导体陶瓷零部件增材制造材料与工艺中的挑战

拟邀请半导体陶瓷零部件企业/高校研究所

19

刻蚀/薄膜沉积设备腔体与内衬陶瓷部件

拟邀请陶瓷零部件企业/高校研究所

20

特种陶瓷的高温烧结技术及其在半导体制造中的应用

拟邀请热工装备企业/高校研究所

更多议题征集中,欢迎推荐或自拟议题,演讲/赞助请联系李小姐:18124643204

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二、报名方式

 

方式一:

温小姐:18126443075(同微信) 

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作者 ab, 808

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