9月7日,RFHIC 发布DiaFlux™ 系列产品,该系列为热级多晶 CVD 金刚石散热器,适用于高功率射频、微波、光电子和半导体封装应用。

现代高功率设计将越来越大的热通量集中在小型高功率芯片下方。当传统的散热材料成为瓶颈时,设计的散热顶盖将决定功率、密度和性能的输出。DiaFlux™ 将工程实践中导热系数最高的材料直接应用于发热点——尺寸、厚度和公差均符合实际封装的需求。

该系列产品首发推出两个散热等级,采用相同的外形设计:

  • DiaFlux™ 150 — 标准热等级:25 °C 时导热系数为 1,500 W/m·K,适用于传统导热板设计受限的各种高功率应用。
  • DiaFlux™ 180 — 高性能导热等级:25 °C 时导热系数为 1,800 W/m·K,适用于对散热要求最高的应用设计。

     

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主要规格(两种等级):

  • 采用等离子体辅助化学气相沉积法生长的多晶CVD金刚石;电绝缘
  • 厚度:200、350 和 500 微米,精度为 ±20 微米
  • 圆形规格:直径 3–100 毫米;方形规格:3 × 3 毫米至 70 × 70 毫米;可定制几何形状
  • 激光切割边缘,特征尺寸小于 0.2 毫米;横向公差 ±0.2 毫米
  • 表面粗糙度 Ra <20 nm
  • 以板材、芯片、散热片和晶圆的形式供应

     

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作者 ab, 808