PVD技术革新助力复合集流体降本增效

复合集流体作为一种新型功能材料，广泛应用于锂离子电池领域。随着国内复合集流体生产企业的技术不断进步，下游应用领域需求增加，复合集流体逐渐受到关注，在国内掀起了一波热潮。

4月27日，第二届动力电池复合集流体大会在苏州举行，广东汇成真空副总经理李志方在会上发表“PVD技术助力复合集流体降本增效”主题演讲。

PVD技术革新助力复合集流体降本增效

复合集流体代替传统集流体减重降本

传统集流体在“金属价格+加工费”模式定价下，原材料成本占比较大。复合铜箔相比于 6μm传统铜箔原材料减重55%，复合铝箔相比于12μm传统铝箔减重64%，复合集流体缩减金属用量，大大减少箔材单位面积成本。

复合集流体提高能量密度增加效益

复合集流体使用低密度的高分子材料置换部分金属，降低集流体重量和厚度，提升电池能量密度10%以上，提升效率。

PVD镀膜设备助力复合集流体进一步发展

未来趋势——一步法：低投入，高产出

PVD技术革新助力复合集流体降本增效

PVD一步法在3.0～4.5μmPET/PP直接镀铜1μm，无需使用化学电镀等湿法工艺，仅通过干法工艺便可一次完成双面铜膜，减少其他生产环节，提高良率，实现增效。

当前主流——两步法：复合铜箔RTR PVD溅射铜+化学电镀增厚1μm

PVD技术革新助力复合集流体降本增效

HCVAC通过磁控溅射靶设计、电子束增强离子清洗装置、超低温镀膜、卷对卷真空镀膜设备设计等PVD工艺技术，改善箔材穿孔状况、提高铜膜结合力、提升产能，极大提升生产效率，进一步增强下游电池厂与车企导入设备的信心。

目前，HCVAC研发的复合铜箔 PVD 磁控溅射卷绕镀膜设备，实现在厚度3.0～4.5μm、幅宽600～1650mm PET/PP等塑料薄膜表面一次完成双面镀铜膜，设备工艺走速0.5-30m/min。从复合铜箔领域来看，目前HCVAC磁控溅射设备已实现量产，完全能满足市场需求。

PVD技术革新助力复合集流体降本增效

一步法：复合铝箔RTR PVD蒸发铝膜1μm

PVD技术革新助力复合集流体降本增效

HCVAC通过自主研发PVD RTR蒸发镀铝膜技术，超薄复合铝箔 PVD 蒸发卷绕镀膜设备，实现在厚度4.5～6.0μm、幅宽600～1700mm PET/PP塑料薄膜表面一次完成双面蒸镀铝膜，设备工艺走速10-100m/min，攻克大规模快速蒸发沉积厚铝膜难关。

PVD技术革新助力复合集流体降本增效

PVD镀膜设备提高产能，降低成本，推进复合集流体降本增效

随着产能上升，PVD真空镀铜膜成本逐步下降，设备的不断更新进步，在提高产能的同时能有效降低设备成本及能耗指标，复合集流体PVD生产实现持续降本增效。

广东汇成真空科技股份有限公司是一家研发、生产和销售PVD镀膜设备、光学镀膜设备、卷绕镀膜设备、连续式镀膜设备、半导体PVD/ALD设备等真空应用解决方案的国家高新技术企业，国家工信部授予“专精特新‘小巨人’”企业称号，成立广东省博士工作站，取得多项发明、外观设计、实用新型专利和版权著作权。

来源：HCVAC广东汇成真空科技股份

原文始发于微信公众号（锂电产业通）：PVD技术革新助力复合集流体降本增效

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