近日,深圳先进电子材料国际创新研究院 (简称“电子材料院”) 团队在电磁屏蔽材料领域取得新进展,相关成果发表于材料领域国际著名期刊《Small Methods》上(20232201694)。电子材料院万艳君副研究员等成员提出了一种有效的策略,通过氢键和配位键的协同作用提高MXene的化学稳定性并改善组装膜的力学性能。MXene在电磁屏蔽材料领域具有潜在应用价值,但其化学不稳定和机械脆性限制了其实际应用,提高其化学稳定性或机械性能的方法常常以牺牲电导率为代价,从而影响电磁屏蔽性能。这种协同策略不仅可以显著提高材料的化学稳定性和力学强度,还可以保持良好的电导率和电磁屏蔽性能,为后续开发性能优异的多功能材料奠定了基础。

院内成果 | 电子材料院在电磁屏蔽材料研究领域取得新进展

图:a) MXeneMXene- cysCysteine薄膜的应力-应变曲线b) MXeneMXene- cys薄膜的随时间变化的电磁屏蔽性能(EMI SE),c)层状结构薄膜的电磁干扰屏蔽机理。

原文始发于微信公众号(深圳先进电子材料国际创新研究院):院内成果 | 电子材料院在电磁屏蔽材料研究领域取得新进展

作者 gan, lanjie

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